濺射鍍膜鈮靶材表面產生紋路的原因
發布時間：
2024-02-27
鈮靶材主要應用于光學鍍膜、表面工程材料鍍膜及耐熱、耐腐蝕高導電等鍍膜行業。在光學鍍膜領域，主要應用于眼科光學產品、鏡頭、精密光學、大面積鍍膜、3D鍍膜等方面。
鈮靶材通常稱為裸靶，首先將其與銅背靶進行焊接，然后進行濺射，將鈮原子以氧化物形式淀積在基板材料上，實現濺射鍍膜。隨著鈮靶材技術與應用的不斷深入與拓展，對鈮靶材的組織均勻性要求提高，主要表現在晶粒尺寸細化、無明顯織構取向和化學純度提高三個方面。
整靶組織性能分布均勻，這對保證鈮靶材的濺射性能至關重要。工業生產中遇到的鈮靶材表面通常會出現規律性紋路，這會大大影響靶材的濺射性能，我們該如何提高靶材利用率呢?
經研究發現，雜質含量(靶材純度)是影響純度的重要原因。原材料的化學成分不均，雜質富集，經過后期的軋制加工，形成鈮靶材表面有規律的紋路; 消除原材料成分分布不均和雜質富集，可避免鈮靶材表面有規律紋路的形成。而晶粒大小跟組織成分對靶材的影響幾乎是可以忽略不計的。
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